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廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫
廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫
產品價格:¥10(人民幣)
  • 規格:25kg/桶
  • 發貨地:佛山
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  • 最小起訂量:1公斤
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    商鋪名稱:佛山市仁昌科技有限公司

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    商品詳情

      高速光亮純錫

      (一) 特點

       

      StannoPure HSB 高速光亮純錫是一種不含氟硼酸根、低泡沫的純錫工藝。適用于片狀、線狀或連接器的連續生產電鍍。

       

      StannoPure HSB 高速光亮純錫能產生良好均一的結晶、光亮的無鉛純錫鍍層,可焊性

       

      StannoPure HSB 高速光亮純錫專為純錫電鍍而研發的工藝,通常用于電子電器裝置,以取替鉛錫電鍍工藝,及迎合禁用含鉛鍍層的國際要求。

       

      StannoPure HSB 高速光亮純錫與其它光錫工藝相比,晶須產生的機會比較低。

       

      StannoPure HSB 擁有以下優點

       

      操作容易

       

      此工藝能通過簡單分析作維護;產生四價錫較少。

       

      穩定的添加劑

       

      添加劑能用在廣闊的溫度范圍內。

       

      簡單的廢水處理

       

      因為鍍液不含氟硼酸根,所以廢水處理相對較容易;對設備的侵蝕也減少。

       

      (二)鍍液組成及操作條件

       

      建議100升開缸量

      甲基磺酸液 SOLDERPLATE(945 克/升游離甲基磺酸)

      16.0

      21.6

      甲基磺酸錫 SOLDERPLATE (300 克/升 Sn2+)

      15.0

      23.3

      高速光亮純錫 HSB 走位劑

      2.0

      2.0

      高速光亮純錫 HSB 光亮劑

      0.4

      0.4

      純水

      66.6


       

      建議工作濃度

      二價錫

      [g/l]

      45 (30 – 60)

      游離甲基磺酸

      [g/l]

      160 (140 – 220)

      高速光亮純錫 HSB 走位劑

      [ml/l]

      20.0 (15.0 – 25.0)

      高速光亮純錫 HSB 光亮劑

      [ml/l]

      4.0 (3.0 – 6.0)


      工作參數

      溫度

      30 °C (25 – 38 °C)

      電壓

      約 1 – 3 伏

      電流密度

      陰極:

      20 A/dm2 (10 – 50 A/dm2)

      強極:

      2.0 – 5.5 A/dm2

      要點:

      要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素

      電流效益

      90 – 100 %

      沉積速度

      10 微米/分鐘(當 20 A/dm2

      要點:


      要達到的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素




      () 配制鍍液

       

       

      在開缸之前,請小心檢查鍍槽及設備,以防泄漏。

       

       

      1. 若鍍槽之前是在類似的甲基磺酸系統下使用,請將所有鍍液(包括所有喉管、過濾裝置及泵)排放干凈;

       

      2.  50-100 毫升/升的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 清洗所有鍍槽,喉管及過濾系統,最少 3 小時,浸泡過夜更佳

       

      若鍍槽是新的,或有使用過潤滑劑、活性劑,建議用 50-100 克/升氫氧化

       

      鉀作預洗,再作以后的清洗步驟。

       

      3. 排放所有已清洗的甲基磺酸液 SOLDERPLATE(注意當地的排放規則),并以純水沖洗鍍槽、所有喉管及過濾系統,更換過濾芯;

       

      4. 注入半缸純水;

       

      5. 加入所需份量甲基磺酸液 SOLDERPLATE,并加以攪拌;

       

      6. 待溶液溫度降至 35℃,加入所需份量的甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 并加以攪拌;

       

      7. 加入高速光亮純錫 HSB 走位劑,其后再加入高速光亮純錫 HSB 光亮劑;

       

      8. 加入純水至標準水位,開動過濾泵循環,約 15 分鐘;

       

      9. 鍍液已可使用。

       

      (四)設備

      鍍槽

      聚丙烯,聚乙烯,聚二氯乙烯或塑料內層鋼鐵

      攪拌

      陰極移動及鍍液攪拌(高速沉積速度)

      過濾

      連續過濾,無氣體 1-5 微米的聚丙烯過濾芯。建議每小時能過濾整缸鍍液 5-8 次。

      抽氣

      需要。

      加熱/冷卻

      PTFE,鈦,陶瓷。

      陽極

      純錫陽極。若需要時,可用鈦籃裝載純錫陽極,但要保證使用電壓低于 6 伏。鈦籃必須保持常滿,以防止對鈦籃的侵蝕。

      如果陽極電流密度過高,會導致不平均的陽極溶解,形成四價錫的出現。

      陽極袋

      聚丙烯。

       

      五)補充及維護

       10,000 安培小時

      高速光亮純錫 HSB 光亮劑

      2.0 – 4.0

      高速光亮純錫 HSB 走位劑

      1.0 – 2.0

            

      高速光亮純錫 HSB 光亮劑及高速光亮純錫 HSB 走位劑的消耗,取決于應用條件、設備及操作條件。帶出消耗亦會影響消耗量。

       

      游離甲基磺酸只有帶出消耗  建議定期分析

      甲基磺酸錫 SOLDERPLATE

      300 克/升 Sn2+60 克/升游離

      甲基磺酸,密度 1.54

      每補充 3.33 毫升/升甲基磺酸錫 SOLDERPL

      錫濃度 1 克/升

      游離甲基磺酸 0.2 克/升。

      甲基磺酸液 SOLDERPLATE

      945 克/升游離甲基磺酸,70%

      密度 1.35

      每補充 1.06 毫升/升甲基磺酸液 SOLDERPLATE,能增加游離甲基磺酸 1 克/升。

       

      注意:補充甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 會增加游離甲基磺酸

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  • 0571-87774297  
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