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光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發部門、科研所喜愛。

芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優質的材料再結合本公司多年生產經驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產廠家和高校實驗室。

電極掩模板是一款精度在10微米以內的金屬掩模板，該掩模板的特點是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優點于一身，受到廣大院校和研究所好評。

絕緣層掩膜板屬于金屬掩膜板的一種，它主要用于蒸鍍兩線路層之間絕緣層，其特點為能緊密的貼服在蒸鍍基材上，位置和開孔大小精度高，方便重復定位，使用時間長，是需要精度蒸鍍線路廠家和研究院校的明智之選。

光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。

 掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。