商鋪名稱：北京華諾恒宇光能科技有限公司
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| 產品參數 | |||
|---|---|---|---|
| 3寸/4寸/5寸光柵掩膜板方形陣列掩模板金屬mask廠家精密加工 品牌 | 華諾激光 | ||
| 加工周期 | 3-5天 | ||
| 適用工件 | 蒸鍍掩膜版、科研實驗掩膜版、金屬MASK、金屬遮罩、叉指電極掩膜版 | ||
| 加工定制 | 是 | ||
| 自動化程度 | 全自動 | ||
| 年最大加工能力 | 999999 | ||
| 產品材質 | 不銹鋼、銅、鋁、鉬、鈦合金 | ||
| 加工精度 | ±20um | ||
| 打樣周期 | 1-3天 | ||
| 加工厚度 | 0.05-2.5mm | ||
| 產地 | 北京天津 | ||
| 設備類型 | 皮秒、飛秒 | ||
| 售賣地 | 全國 | ||
| 可售賣地 | 北京;天津;河北;山西;內蒙古;遼寧;吉林;黑龍江;上海;江蘇;浙江;安徽;福建;江西;山東;河南;湖北;湖南;廣東;廣西;海南;重慶;四川;陜西;甘肅;臺灣 | ||
| 用途 | 掩膜板加工 | ||
| 型號 | CN230207605 | ||
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光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優質的材料再結合本公司多年生產經驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產廠家和高校實驗室。
掩膜版的功能類似于傳統照相機的底片。制造商通常根據客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現為利用已設計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復制，從而實現批量生產。
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