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例如，制造超大規模集成電路，要求在1mm’的面積上：就集成looo個以上品體管，線條寬度僅在lf4m左右，尺寸誤差為o．1ym；在制造掩模原版的圖形發生器巾，其定位精度要求達到o．1flm。所以要研究這種集成電路的裝備，必須有測量用的高精度測量和定位系統。此外，在高純度單晶砍的品格參數測量、在納米表面制造以及對生物細胞、空氣污染微粒、石油纖維等基礎研究中，也無不需要精密測量技術。

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