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中國科協副主席、中國科學院院士王曦解釋說，“超越摩爾”指的是不再只遵循摩爾定律，在半導體工藝尺寸上越做越小，而是在成熟的工藝生產線上，研發非數字、多元化半導體技術與產品。“超越摩爾”將不再局限于依靠尺寸改變去推進集成電路制程節點，更重視材料、工藝、結構等多維度的創新，從而實現等其他新興技術領域“換道超車”。
位于整個物聯網的基礎層，是數據采集的入口，也是物聯網的基石。然而代工廠不愿接，小批量中試無處可做，成為我國等微機電系統研發機構的一大共性難題。8英寸研發中試線運營副總裁、廠長游家杰表示，當前我國約60%的都是靠進口，缺口很大，尤其是微機電系統智能，幾乎全部依賴進口。
目前，在“超越摩爾”領域，相比于業界普遍使用的6英寸產線，貫通從研發到量產全程服務的上海微技術工業研究院8英寸線是公認的領先技術。據相關人士透露，整個生產線建造投入近10億元，目前一期3000平方米已投入使用。
據悉，8英寸研發中試線將專注于“超越摩爾”產品技術的開發，可以全面開展表面、體、3D微納加工以及新工藝、新器件、新系統的研發，并根據“超越摩爾”產品和技術特點部署了MEMS、硅光子、RF、硅基III-V族、3D集成、MR磁傳感、功率及生物等相關工藝和量測設備。作為國內第一條先進8英寸研發中試線，不僅可承擔產品研發、小批量生產、技術培訓、設備驗證等服務，有助于提升研發的成功率，更將助力實現 “超越摩爾”產品和技術從研發到量產的無縫銜接。
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目前，我國在模型這一領域幾乎是一片空白。作為IC設計中的核心部分之一的模型協會，至今也沒有一家中國內地企業參與其中，而這恰恰是國內非常缺乏的可利用資源。當然，這其實并不是我們的錯。因為國內本來起步就晚，也沒有Intel、TI、TSMC等巨頭的資金和技術儲備資本，大家都只能把公司的生存放在第一位。
美國的CMC大發展，得益于歐美大批的半導體廠、IDM和EDA廠商的支持。國內的困境主要有兩方面原因：一是除了屈指可數的半導體廠(SMIC, HHGrace等)外，幾乎沒有大的IDM，而設計公司基本是Fabless運作模式，使用流片服務。這樣一來，對模型建設感興趣的參加者就寥寥無幾了。
另一個更深層的原因則是短視性和對R&D的輕視。國內半導體乃至整個高新技術產業，大都以銷售為主導，模型屬于后端的工程部門，短期內無法產生效益，公司對此缺乏足夠的耐心。即使是前端設計技術團隊，其地位和資源也十分有限。國內目前半導體廠缺乏吸引力的原因之一是IP的缺乏，很多公司不輕易轉單過來的原因，模型就是一個重要因素，因為模型不準，導致流片失敗或者不達要求。根據最新的調查報告，28% 的國內設計企業覺得缺乏足夠的IP 是和半導體廠合作的主要障礙
