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    伯東 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產
    發布者:bdqysh  發布時間:2020-11-18 16:37:56  訪問次數:89

    在 DC/DC 混合電路生產各工藝環節中會有不希望出現的物理接觸面狀態變化、相變等, 對質量帶來不利影響, 對其生產中表面狀態的控制已成為必不可少的關鍵控制環節.

     

    某大型工廠在生產過程中采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產, 其主要目的是:

    1. 去除處理物體表面的外來物層, 如沾污層、氧化層等

    2. 改善物體表面狀態, 提高物體表面活性, 提高物體表面能等

    伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

    離子源型號

    RFICP220

    Discharge

    RFICP 射頻

    離子束流

    >800 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    20 cm Φ

    離子束

    聚焦, 平行, 散射

    流量

    10-40 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    30 cm

    直徑

    41 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    客戶存在的問題:

    客戶的背銀芯片很容易發生銀的硫化及氧化,將直接影響芯片的貼裝質量.被硫化或氧化背銀的芯片采用導電膠粘接、氫氣燒結、再流焊貼裝均將有空洞率增大導致接觸電阻、熱阻增大和粘接強度下降等問題.

     

    解決方案:

    客戶采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 , 氬氣作為清洗氣體, 清洗時間200~300 s, 氣體流量40 sccm, 經過 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 產生的離子束清洗芯片背面

     

    運行結果:

    1. KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 有效去除背銀芯片硫化銀及氧化銀, 保證了芯片貼裝質量

    2. 可有效提高 DC/DC 混合電路組裝質量及可靠性

     

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

     

     

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