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    伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究
    發布者:bdqysh  發布時間:2020-11-11 13:06:00  訪問次數:79

    某機構為了研究離子源處理純鈦材料表面的時間長短對純鈦材料表面生物活性及親水性的影響采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 用于純鈦表面氨基化改性的研究.

     

    試驗樣品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde  TA2型純鈦線

     

    試驗流量簡介: 通過對試驗樣品進行刻蝕時間長短不同形成不同的清潔表面然后通過儀器分析其親水性

     

    用于刻蝕的 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

    射頻離子源型號

    RFICP 380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

    推薦理由:

    使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行刻蝕

     

    試驗結論:

    N2 NH的混合氣體射頻離子源處理純鈦表面可以在表面引入氨基但處理時間并不是越長越好改性后的鈦片表面的親水性得到較大的提高但隨放置時間的增加其表面親水性會變差5h改性鈦片保存在氮氣氣氛中有利于保持其親水性.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

     

    http://www.hakuto-china.cn/uploadforck/images/image-20200724135740-1.jpeg

     

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